Samsung Daftarkan Paten untuk Ponsel Berponi

Bagus Hernawan - Selasa, 17 April 2018 | 11:31

Dari beberapa merek smartphone yang meniru desain poni atau Notch di iPhone X, merek Samsung masih menjadi satu-satunya yang belum menggunakan tampilan serupa. Namun kemungkinan hal ini akan segera berakhir. Dikutip dari laman CNET, Samsung telah mendaftarkan paten untuk desain ponsel Galaxy baru yang menggunakan Notch, mirip dengan iPhone X.

Samsung filed a patent application (PDF) with Chinese patent organization SIPO that shows off a few different phone designs each with a notch above the phone’s screen.

Data ini berasal dari organisasi SIPO untuk mengurus hak paten di Tiongkok. Dalam gambar yang tim MakeMac dapatkan, sketsa desain untuk Samsung Galaxy tersebut memiliki Notch yang lebih kecil dibandingkan iPhone X. Kamera ganda juga terlihat di bagian belakang namun dalam bentuk horisontal seperti iPhone 7 Plus dan iPhone 8 Plus.

Baca Juga:

Satu hal yang masih menjadi ciri khas dari Samsung adalah port jack audio 3.5 mm. Mereka tidak menghapus port tersebut dalam sketsa desain yang dipatenkan. Sedangkan port utama yang digunakan adalah USB-C yang saat ini sedang naik daun di beragam ponsel Android.

Kapan desain tersebut digunakan oleh Samsung? Sayangnya tidak ada yang tahu, bisa saja paten ini hanya didaftarkan saja dan tidak akan digunakan pada ponsel baru mereka dalam waktu dekat. Atau memang Samsung sudah siap untuk meniru desain Notch di iPhone, yang sebelumnya mereka sindir dalam sebuah iklan produknya? Bagaimana pendapat kamu, bagikan di kolom komentar ya!